光刻膠是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一，也是當前技術門檻最高的微電子化學品之一。光刻膠可通過光化學反應，經曝光、顯影等光刻工序將所需要的微細圖形從光罩轉移至待加工基片上。該待加工基片有的是集成電路材料、顯示面板材料，還有的是PCB（印刷電路板）等。因此，光刻膠也是當前電子領域重要的基礎應用材料之一。

“早期油墨感光產品所用的配方均依賴進口，一旦供給端出現問題，生產就會陷入被動。但自主創(chuàng)新走起來又非常難，特別是國內起步晚，很多技術都被外國壟斷?！睏钣龃赫f，在實現從“0到1”的突破中，容大感光面臨著雙重阻力：一方面來自外部環(huán)境，當時業(yè)內領先企業(yè)大多向海外購買成熟配方直接投產，以便迅速搶占市場；另一方面來自企業(yè)內部，不僅關鍵技術研發(fā)遭遇瓶頸，而且研發(fā)出的產品屢屢遭受市場質疑。

  如今，憑借多年自主研發(fā)和實踐積累，某些公司已逐步掌握了樹脂合成、光敏劑合成、配方設計及制造工藝控制等電子感光化學品核心技術，陸續(xù)推出了多種處于行業(yè)領先地位的PCB感光油墨產品，可有效提高電子線路圖形精確度，降低產品次品率，同時可適應PCB技術向高密度、高精度、多層化發(fā)展的趨勢。